Madagaskar Centella Ampule Skum

Tidsbegrenset tilbud: Gratis frakt på alle bestillinger

Madagaskar Centella Ampule Skum 1240728

Sale price NOK kr62.27 Regular price NOK kr177.97

Maat 125 ml

Quantity

Order summary

Madagaskar Centella Ampule Skum

62.27

Have a discount code?

Coupon code applied will be stored on your account

Subtotal

Shipping calculated at checkout.

SKIN1004 Madagaskar Centella Ampulle Foam

Et rikt renseskum med en ideell pH på 5, som effektivt fjerner sminke og urenheter uten å irritere huden.

Dette lysebrune ampulle-renseskummet har en optimal pH på 5 og er derfor veldig skånsomt, da det ikke irriterer hudbarrieren. Det fine skummet, som dannes ved friksjon med vann, inneholder natriumpulver, som effektivt renser fine støvpartikler. Etter bruk føles huden myk, ikke stram eller tørr. I tillegg inneholder SKIN1004 Madagaskar Centella Amulet Foam 33 % Centella Asiatica-ekstrakt og beskytter hudbarrieren intensivt under rensing. Som alle produkter i SKIN1004 Centella-serien inneholder denne ampullen Centella Asiatica, som vokser på øya Madagaskar, da den finner ideelle vekstforhold der for å optimalt utvikle sine nærende og beskyttende egenskaper. Anbefales for: alle hudtyper. Viktige ingredienser: Centella Asiatica-ekstrakt: Beroliger og etterfyller hudens fuktighetsnivå. Påfør en passende mengde rensekrem på våte håndflater og arbeid det opp til skum ved å gni hendene sammen. Masser forsiktig inn i ansiktet og skyll deretter med lunkent vann.

Aqua (vann), natriumkokoylisetionat, glyserin, natriummetylkokoyltaurat, koko-betain, Centella Asiatica-ekstrakt, Coptis Chinensis-rotekstrakt, natriumhyaluronat, Eclipta Prostrata-ekstrakt, Coccinia Indica-fruktekstrakt, Theobroma Cacao (kakao)ekstrakt, kaliumkokoylglycinat, 1,2-heksandiol, natriumklorid, kaliumkokoat, kaliumbenzoat, polyquaternium-67, sitronsyre, dekstrin, natriumbikarbonat, dinatrium EDTA, natriumacetat, butylenglykol

Your Cart

Out of stock

Your Cart

SKIN1004 Madagaskar Centella Ampulle Foam

Et rikt renseskum med en ideell pH på 5, som effektivt fjerner sminke og urenheter uten å irritere huden.